🇷🇺 Фотолитография. Производственное оборудование. Планы. 90нм. Россия В России могут начать работы над литографом для техпроцесса 90 нм в 2026 году Тему сегодня предложил CNews, где считают, что разработка такого изделия может начаться в 2026 году. Постараюсь высказаться по ней в меру своего понимания. К задаче получения разрешения 90 нм можно подходить по-разному, и далеко не всегда требуется создание принципиально нового литографа. Путь первый: эволюция существующего Если в распоряжении есть хороший фотолитограф, предназначенный для 130 нм, то с помощью двукратного экспонирования и сложных методов коррекции (OPC, фазовые маски) теоретически можно пытаться «дотянуть» его до 90 нм. Для этого потребуется доработка оптической системы, замена фоторезистов и серьезные изменения в системе управления. Теоретически такую установку можно использовать даже для 65 нм, но это потребует еще больших усилий и снизит рентабельность производства. У некоторых российских производителей есть зарубежные фотолитографы, которые изначально создавались с учетом работы с техпроцессом 90 нм, например, ASML PAS 5500/1150C, работающий на длине волны 193 нм (ArF). Вопрос в том, удается ли сегодня поддерживать их в рабочем состоянии и получать на них нужный результат. Путь второй: разработка своего Полагаться на старое и сложное в обслуживании зарубежное оборудование - рискованно. Поэтому логично задуматься о собственном. Но здесь важна последовательность действий. Сначала нужно создать свой литограф для 130 нм. Этим занимается Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ). По планам, разработка такой установки на длине волны 248 нм (KrF) должна завершиться в сентябре 2026 года. И только после этого, имея готовую платформу, можно говорить о ее развитии до 90 нм. Возникает вопрос: возможно ли это с 248-нм лазером? (..)