Россия начнёт разработку литографа для производства чипов по технологии 90 нм в 2026 году В 2026 году Россия начнёт работу над созданием литографа для производства чипов по топологии 90 нм. Об этом 20 марта 2026 года на отраслевой научно‑технической конференции радиоэлектронной промышленности заявил заместитель министра промышленности Василий Шпак. Читать дальше