В России готовятся к созданию собственного литографа под нормы 90 нм. Oб этом заявил замминистра промышленности Василий Шпак на XXI отраслевой научно-технической конференции радиоэлектронной промышленности 20 марта. По оценкам экспертов, создание 90-нм литографа на базе уже существующей платформы может занять 2-4 года и потребовать сотни миллионов долларов. Отмечается, что ключевые сложности связаны не только с самой установкой, но и с доступностью оптики, фотошаблонов, материалов и инженерных компетенций.